輝納涂層HINa-Metal系列PVD金屬硬質膜涂層設備采用的增強型磁控陰極弧技術，該系列設備可完成的涂層覆蓋各類金屬涂層如：氮化鈦(TiN),氮化鋁鈦(TiAlN),氮化鉻鋁鈦(TiAlCrN),氮鉻鋁鈦(AlCrN）,氮化鉻(CrN),氮碳化鈦(TiCN)等等，此類薄膜可廣泛用于刀具、工具、模具和有高耐磨要求的零部件。Hi-Metal系列涂層設備是一款具有良好穩定性和高度自動化程度的工業硬質膜涂層設備
| HiNa-Metal 標準設備的基本參數 |
涂層設備總體尺寸（毫米） | 2400(寬）x2400(深)x2000(高) | ||
設備功率 | 50(千瓦),380(伏)三相 | ||
壓縮空氣和冷卻水 | 0.46~0.60兆帕，1.5立方米/每分鐘 靶源冷卻25°C，腔體冷卻35°C | ||
真空抽氣系統 | 機械選片泵1臺 分子泵1臺 | 200立方米/小時 2500升/秒 | 無負載系統極限真空 1.0x10-4帕 |
真空測量系統 | 低真空/電阻規/2路 高真空/離子規/1路 | ||
磁控陰極靶和電源（電源可根據客戶需求自選） | 平面增強型磁控陰極弧3套 陰極弧電源3套 偏壓電源1套 陰極弧靶的數量最多4個 | 靶源尺寸根據客戶要求自選 直流弧電源 高壓直流脈沖電源 | 靶電流<150安倍 有效工作電壓25伏 有效工作電流180安倍 10千瓦，占空比0~90%，頻率40千赫茲 |
工藝氣體 | 獨立3路，質量流量控制器MFC（可根據客戶需要增加獨立氣路） | ||
工件轉架 | 2套、帶8個直徑120毫米可獨立轉動的行星轉塔，可連同被鍍工件整體裝卸，轉速~10轉分鐘，轉架尺寸直徑520毫米，承載重量350公斤 | ||
鍍膜機控制系統 | PLC控制系統+工業PC/PLC 系統具備全自動，手動和維護3種操作模式 所以所有運行參數記錄于電腦之中供分析查閱 開放式軟件界面，用戶可自行開發工藝 | ||
涂層工藝 | 隨機附送4套成熟類金剛石DLC涂層工藝和輔助工藝 | ||
